2026-11-04 · المصدر：Tom's Hardware
تدفع رائدة ماسحات EUV مصادرَ ضوئها من البلازما المولّدة بالليزر نحو 1,000W، وتُظهر اهتمامًا ضئيلًا بتقنية الليزر الإلكتروني الحر المبنية على مسرعات الجسيمات التي يدعمها Elon Musk.
تضاعف ASML رهانها على البلازما المولّدة بالليزر (LPP) بوصفها مصدر الضوء لماسحاتها في طباعة النقش فوق البنفسجي القصوى (EUV)، دافعةً تطوير التقنية نحو أنظمة من فئة 1,000W، وفق تقرير Tom's Hardware. وتواصل الشركة تحقيق تقدم مع مصادر LPP EUV لديها، وهذا الزخم هو السبب الرئيس لما تُظهره من اهتمام بالكاد يُذكر بمقاربة بديلة: مصادر الليزر الإلكتروني الحر (FEL) المبنية على مسرعات الجسيمات لأدوات صناعة الرقائق.
ومفهوم FEL لا يخلو من دعم رفيع المستوى. فقد ألقى Elon Musk سنده خلف الطريقة المبنية على مسرعات الجسيمات لتوليد ضوء فوق البنفسجي القصوى الذي تعتمد عليه ماسحات EUV في نقش الرقائق. لكن مع تقدم مصادر الشركة البلازمية ذاتها، يشير التقرير إلى أنها ترى سببًا ضئيلًا لإعادة هندسة أدواتها حول تقنية المسرعات — موقف يُبعد عمليًا خيار FEL عن خارطة طباعة النقش المهيمنة في الصناعة.
ولصنّاع الرقائق، مصدر الضوء ذراع حاسمة في إنتاجية الماسح: قدرة المصدر الأعلى تعني عمومًا ضوء EUV صالحًا أكثر وإنتاجية أكبر لكل أداة. فالتزام ASML بأنظمة LPP بقدرة 1,000W يرسل إشارة ثقة بأن مواصلة هندسة بنيتها القائمة يمكن أن تواصل تحقيق تلك المكاسب، لا قفزة تخريبية نحو طريقة مختلفة جوهريًا لتوليد الضوء. وهذا الحساب مهم للمصانع التي تخطط سعتها حول عقد إنتاج قائم على EUV.
وهذا التجاهل يترك المفهوم المبني على المسرعات بلا المصادقة الأهم: تبنّي صانع ماسحات EUV الرائد ذاته. وما لم يُظهر أنصار FEL مزايا تفوق نضج خارطة LPP لدى ASML، فالتقنية تبدو مرشحة للبقاء خارج سلسلة أدوات صناعة الرقائق السائدة في الأفق المنظور. وإلى حينه، ستواصل ماسحات ASML سحب ضوئها من البلازما المولّدة بالليزر — عند مستويات قدرة في ارتفاع مطّرد.
الوسوم: ASML · Elon Musk · EUV Lithography · Laser-Produced Plasma · Free Electron Laser
萬安算交所 AIXX · AIXX · بورصة الحوسبة الموثقة · قاعة التداول